-
1 reactive ion
хімічно активний іонEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > reactive ion
-
2 reactive ion etching
реактивне іонне травлення, РІТEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > reactive ion etching
-
3 reactive ion milling
реактивне іонне травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > reactive ion milling
-
4 reactive-ion beam
пучок хімічно активних іонівEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > reactive-ion beam
-
5 deep reactive ion etching (DRIE)
глибинне реактивне іонне травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deep reactive ion etching (DRIE)
-
6 deep reactive ion etching (DRIE)
глибинне реактивне іонне травленняEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deep reactive ion etching (DRIE)
-
7 hydrogen reactive ion etching
реактивне іонне травлення в середовищі воднюEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > hydrogen reactive ion etching
-
8 ion
іон- acceptor-impurityion- acceptorion
- ad ion
- donor-impurityion
- donorion
- dopant ion
- doping ion
- impurity ion
- n-type impurity ion
- parent molecular ions
- p-type impurity ion
- reactive ion -
9 etching
травлення (див. т-ж etch) - anisotropic etching
- anode etching
- batch etching
- blanket etching
- chemically assisted etching
- concentration dependent etching
- crystallographically sensitive etching
- deep reactive ion etching DRIE
- deep reactive ion etching
- differential etching
- digital etching
- diode ion etching
- diode etching
- dip etching
- directional etching
- dislocation etching
- dry process etching
- dry etching
- electron-beam induced etching
- excessive etching
- exciraer laser etching
- gas-phase plasma-assisted etching
- high-frequency ion etching
- hydrogen reactive ion etching
- ion etching
- ion-assisted plasma etching
- ion-beam induced etching
- isotropic etching
- jet etching
- laser-enhanced etching
- laser-induced pattern projection etching
- laser radical etching
- lateral etching
- lift-off etching
- light-induced etching
- low-pressure plasma etching
- low-pressure etching
- masked etching
- maskless etching
- maskless laser etching
- mesa etching
- microwave plasma etching
- microwave etching
- mild etching
- nonundercutting etching
- orientation-dependent etching
- oxygen gas plasma etching
- permeation etching
- photochemical etching
- photoelectrochemical etching
- photo-enhanced chemical dry etching
- photoexcited etching
- photo-initiated etching
- photoresist-masked etching
- plasma reactor etching
- plasma etching
- post etching
- preferential etching
- radical plasma etching
- radical etching
- radio-frequency plasma etching
- reactive ion etching
- regenerative etching
- resistless etching
- selective etching
- sharp etching
- sideways etching
- single-step laser etching
- spray etching
- sputter etching
- steady-state etching
- synchrotron radiation-assisted etching
- taper etching
- tetrode ion etching
- tetrode etching
- triode ion etching
- triode etching
- undercuttingetching
- undercutetching
- UV laser etching
- vacuum ultraviolet-assisted etching
- vertical etching
- VUV-assisted etching
- wet chemical etching
- wet etching
- zero-undercut etching -
10 beam
промінь; пучок - excimer beam
- Gaussian beam
- impurity-ion beam
- Kauffman ion beam
- microfocused ion beam
- molecular beam
- oxigen plasma beam
- plasma beam
- reactive-ion beam
- shaped beam -
11 milling
-
12 deposition
осадження - blanket deposition
- chemical deposition
- chemical vapor deposition
- diffusional deposition
- dynamic deposition
- electrochemical deposition
- electroless deposition
- electrolythic deposition
- electron-beam deposition
- epitaxial deposition
- evaporation deposition
- evaporative deposition
- excimer-induced deposition
- film deposition
- gas deposition
- glow-discharge deposition
- high-rate deposition
- ion-beam induced deposition
- ion-beam deposition
- ionized-cluster beam deposition
- laser gold deposition
- laser-induced deposition
- laser photo-assisted deposition
- laser photochemical deposition
- localized electrochemical deposition LED
- localized electrochemical deposition
- low-pressure chemical vapor deposition LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
- low-temperature vapor deposition
- metal deposition
- metall-organic deposition
- microcrystalline like deposition
- microwave plasma reactive vapor deposition
- molecular-beam deposition
- multiple-stage deposition
- oblique deposition
- open-tube deposition
- photochemical deposition
- photo-initiated deposition
- photolytic deposition
- photon-controlled deposition
- physical vapor deposition
- plasma-assisted laser deposition
- pyrolytic deposition
- serigraphic deposition
- sputter deposition
- static deposition
- thin-film deposition
- vacuum vapor deposition
- vapor-phasedeposition
- vapordepositionEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > deposition
-
13 evaporation
1) напилення, термовакуумне випаровування 2) випаровування - angle evaporation
- e-beam electron-beam evaporation
- e-beam evaporation
- electron-beam evaporation
- flash evaporation
- ion evaporation
- ion-enhanced evaporation
- laser-beamevaporation
- laser-evaporation
- metal evaporation
- oblique evaporation
- splash-free evaporation
- thermal evaporation
- thin-film evaporation
- vacuum evaporationEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > evaporation
-
14 sputtering
розпилювання Процес випуску атомів або групи атомів з поверхні катода (негативного електроду) у вакуумній трубці як результат дії важких іонів. Цей процес використовується для осадження тонкого шару металу на скло, пластик, метал або іншу поверхню у вакуумі - bulk sputtering
- cathode sputtering
- dc sputtering
- diode sputtering
- high-rate sputtering
- ion-beam sputtering
- laser sputtering
- magnetron sputtering
- physical sputtering
- plasma sputtering
- radio-frequency cathode sputtering
- reactive sputtering
- RF sputtering
- secondary sputtering
- thin-film sputtering
- triode sputteringEnglish-Ukrainian dictionary of microelectronics > sputtering
См. также в других словарях:
Reactive-ion etching — (RIE) is an etching technology used in microfabrication. It uses chemically reactive plasma to remove material deposited on wafers. The plasma is generated under low pressure (vacuum) by an electromagnetic field. High energy ions from the plasma… … Wikipedia
Reactive-ion etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
Reactive Ion Etching — Gravure ionique réactive La gravure ionique réactive ou gravure par ions réactifs très souvent appelée par son acronyme anglophone, RIE (pour Reactive Ion Etching), est une technique de gravure sèche des semi conducteurs. Il s agit d une… … Wikipédia en Français
reactive ion etching — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion milling — reaktyvusis joninis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etching; reactive ion milling vok. reaktives Ionenätzen, n rus. реактивное ионное травление, n pranc. décapage ionique réactif, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion sputtering — reaktyvusis joninis dulkinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion sputtering vok. reaktives Sputtern, n rus. реактивное ионное распыление, n pranc. pulvérisation ionique réactive, f … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion etch resistance — atsparumas reaktyviajam joniniam ėsdinimui statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion etch resistance vok. Beständigkeit gegen reaktives Ionenätzen, f rus. стойкость к реактивному ионному травлению, f pranc. résistance au… … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam etching — reaktyvusis jonpluoštis ėsdinimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam etching vok. reaktives Ionenstrahlätzen, n rus. реактивное ионно пучковое травление, n pranc. décapage par faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive-ion beam — reaktyviųjų jonų pluoštas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam vok. reaktiver Ionenstahl, m rus. пучок химически активных ионов, m pranc. faisceau d ions réactifs, m … Radioelektronikos terminų žodynas
reactive ion-beam oxidation — reaktyvusis jonpluoštis oksidavimas statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reactive ion beam oxidation vok. reaktive Ionenstrahloxydation, f rus. реактивное ионно пучковое оксидирование, n pranc. oxydation par faisceau d ions… … Radioelektronikos terminų žodynas
Deep reactive-ion etching — (DRIE) is a highly anisotropic etch process used to create deep penetration, steep sided holes and trenches in wafers, with aspect ratios of 20:1 or more. It was developed for microelectromechanical systems (MEMS), which require these features,… … Wikipedia